Mini LED 芯片膜厚測(cè)試系統(tǒng)
簡(jiǎn) 述：
測(cè)量目標(biāo)膜的絕對(duì)反射率，實(shí)現(xiàn)高精度膜厚和光學(xué)常數(shù)測(cè)試！ （分光干渉法）
品 牌：
日本 大塚電子
產(chǎn)品型號(hào)：
- optm
特長(zhǎng) Features
測(cè)量項(xiàng)目 Measurement item
構(gòu)成圖
半導(dǎo)體膜厚測(cè)試儀OPTM 式樣Specifications
※ 上述式樣是帶有自動(dòng)XY平臺(tái)。
· 膜厚測(cè)量中必要的功能集中于頭部
· 通過(guò)顯微分光高精度測(cè)量絕對(duì)反射率（多層膜厚、光學(xué)常數(shù)）
· 1點(diǎn)只需不到1秒的高速tact
· 實(shí)現(xiàn)了顯微下廣測(cè)量波長(zhǎng)范圍的光學(xué)系（紫外～近紅外）
· 通過(guò)區(qū)域傳感器控制的安全構(gòu)造
· 搭載可私人定制測(cè)量順序的強(qiáng)大功能
· 即便是沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的人也可輕松解析光學(xué)常數(shù)
· 各種私人定制對(duì)應(yīng)（固定平臺(tái)，有嵌入式測(cè)試頭式樣）
測(cè)量項(xiàng)目 Measurement item
· 絕對(duì)反射率測(cè)量
· 膜厚解析
· 光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率、ｋ：消光系數(shù)）
構(gòu)成圖
※ release 時(shí)期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預(yù)定2016年9月。
＊ 膜厚范圍是SiO2換算。
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